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一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件

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成果名称: 一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件 关键字: 缓冲层 , 基底 , 薄膜 , 冲击波 , 激光 , 缓冲 , 光学 , 应力 , 元件 , 阻抗 应用行业: 制造业
高新技术领域: 先进制造技术 所在地: 四川省 知识产权类型: 发明专利
知识产权编号: CN201810069553.0 成果体现形式: 成果属性:
成果所处阶段: 授权 成果水平: 国内领先 研究形式:
学科分类: 战略新兴产业: 高端装备制造 课题来源:
第一完成单位名称: 四川大学 第一完成单位属性: 技术成熟度:
合作方式: 技术转让 交易价格(万): 6.00 所属十强产业:

本发明涉及光学元件技术。本发明解决了目前光学元件基底的后表面易损伤的问题,提供了一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件,其技术方案可概括为:一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件,包括基底、所需薄膜及缓冲层薄膜,其中,缓冲层薄膜位于基底后表面与所需薄膜之间,缓冲层薄膜所采用材料的声阻抗数值与基底材料的声阻抗数值相减后的绝对值不超过基底和材料的声阻抗相加后与应力系数之积,其中应力系数决定与元件的抗张应力阈值和冲击波峰值,数值上等于两者之比。本发明的有益效果是:减缓或消除了光学元件基底的后表面损伤问题,适用于光学元件。

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