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一种高带宽的单行载流子光电二极管
成果名称: | 一种高带宽的单行载流子光电二极管 | 关键字: | 吸收 , xgaxasyp1 , 缓冲层 , 掺杂 , utc , 禁带宽度 , 禁带 , in1 , 载流子 , 缓冲 | 应用行业: | 信息传输软件和信息技术 |
高新技术领域: | 电子信息技术 | 所在地: | 北京市 | 知识产权类型: | 发明专利 |
知识产权编号: | CN202211459094.X | 成果体现形式: | 成果属性: | ||
成果所处阶段: | 授权 | 成果水平: | 国内领先 | 研究形式: | |
学科分类: | 战略新兴产业: | 新一代信息技术 | 课题来源: | ||
第一完成单位名称: | 北京邮电大学 | 第一完成单位属性: | 技术成熟度: | ||
合作方式: | 技术转让 | 交易价格(万): | 7.00 | 所属十强产业: |
本发明公开了一种高带宽的单行载流子光电二极管,属于太赫兹通信领域;具体是:以现有光电二极管UTC‑PD为基础,通过工艺生长在吸收层引入线性掺杂,从靠近阻挡层的一端到靠近缓冲层的另一端,掺杂浓度从2e18/cm^3到2e17/cm^3的范围内呈线性变化,进而在其引入内建电场,加速电子通过吸收层;同时,在吸收层材料与收集层材料之间通过外延生长,改变缓冲层材料In1‑xGaxAsyP1‑y中的组分x与组分y,加速电子通过缓冲层;本发明使传统UTC‑PD的结构得到优化,减少电子从吸收层渡越到收集层的时间,同时提高了器件的3dB带宽。
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余建国
17713273876
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