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一种实现短波长紫外LED的外延结构
成果名称: | 一种实现短波长紫外LED的外延结构 | 关键字: | algan , gan , 量子 , 生长 , 掺杂 , 渐变 , led , 紫外 , al0 , 厚度 | 应用行业: | 制造业 |
高新技术领域: | 先进制造技术 | 所在地: | 广东省 | 知识产权类型: | 发明专利 |
知识产权编号: | CN201710170540.8 | 成果体现形式: | 成果属性: | ||
成果所处阶段: | 授权 | 成果水平: | 国内领先 | 研究形式: | |
学科分类: | 战略新兴产业: | 高端装备制造 | 课题来源: | ||
第一完成单位名称: | 广东工业大学 | 第一完成单位属性: | 技术成熟度: | ||
合作方式: | 技术转让 | 交易价格(万): | 5.00 | 所属十强产业: |
本发明公开了一种实现短波长紫外LED的外延结构,所述外延结构自下而上包括依次设置的衬底、GaN缓冲层、未掺杂的GaN层、掺杂N型GaN层、多量子阱AlGaN/GaN层、P型AlGaN电子阻挡层、渐变P型AlGaN层和P型GaN层,所述衬底为蓝宝石衬底,所述GaN缓冲层的厚度为20~25nm,生长温度为530‑550℃,并在1030‑1080℃恒温6‑8分钟使GaN缓冲层重结晶,所述未掺杂的GaN层的厚度为2.0~2.5μm,生长温度为1030‑1080℃,所述掺杂N型GaN层的厚度为2.5‑3μm,生长温度为1030‑1080℃。本发明采用渐变P型AlGaN层,能减少极化效应,削弱电子阻挡层EBL到P型层之间的能带弯曲,使得红移现象得到改善,呈现更短的发光波长,发光强度也随之增大。
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何苗
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