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一种PECVD工艺腔室支管路装置及其所在的气路系统

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成果简介
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前景分析

成果名称：	一种PECVD工艺腔室支管路装置及其所在的气路系统	关键字：	pecvd , 管路 , 进气 , 排气管 , 进气管 , 排气 , 工艺 , 本体 , 容器 , 密封	应用行业：	石油和天然气开采业
高新技术领域：	电子信息技术	所在地：	河北省	知识产权类型：	发明专利
知识产权编号：	CN201910487899.7	成果体现形式：		成果属性：
成果所处阶段：	授权	成果水平：	国内先进	研究形式：
学科分类：		战略新兴产业：	新一代信息技术	课题来源：
第一完成单位名称：	承德石油高等专科学校	第一完成单位属性：		技术成熟度：
合作方式：	技术转让	交易价格(万)：	6.00	所属十强产业：

本发明提供了一种PECVD设备工艺腔室支管路装置及其所在的气路系统，包括容器本体10，所述容器本体10的上部设有密封盖12，所述密封盖12的上方开有进气口121，排气口122，所述容器本体10内盛放有液体11，所述进气口121连接进气管20，所述排气口122连接排气口121。

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