本发明公开了一种还原性气氛中Zr‑Ti‑B‑N纳米复合涂层的制备工艺，属于涂层制备技术领域。采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在基体上沉积Zr‑Ti‑B‑N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N2+H2的混合气体，沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶，依次将TiB2靶和ZrB2靶连接到高功率脉冲磁控溅射阴极和脉冲直流磁控溅射阴极，并在Ar、N2和H2的混合气氛中起辉，开始沉积Zr‑Ti‑B‑N涂层。本发明制备的纳米复合涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。