本发明公开了一种高Cr含量CrB2‑Cr涂层的制备工艺，属于涂层制备技术领域。采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在金属或硬质合金基体上制备CrB2‑Cr纳米复合涂层。为了更好的控制涂层中Cr元素的含量，靶材同时选用CrB2靶和两个金属Cr靶，对基材表面分别进行辉光放电清洗和离子轰击清洗后沉积金属Cr过渡层，最后同时开启Cr靶和CrB2靶，沉积CrB2‑Cr涂层，镀膜过程始终在氩气气氛内进行。本发明工艺简单，重复性好；制备出的CrB2‑Cr涂层中Cr元素含量显著增加，涂层具有较高的硬度和熔点、优异的高温热稳定性以及耐腐蚀性能，其韧性也得到了一定改善，而且涂层组织结构致密，与基体间的结合力强。