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一种可模拟神经突触的聚合物/量子点薄膜忆阻器及其制备方法

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成果名称: 一种可模拟神经突触的聚合物/量子点薄膜忆阻器及其制备方法 关键字: 量子 , 突触 , 聚合物 , 聚合 , 薄膜 , 器件 , 循环 , 电压 , 导体 , 半导体 应用行业: 制造业
高新技术领域: 先进制造技术 所在地: 天津市 知识产权类型: 发明专利
知识产权编号: CN202010407534.1 成果体现形式: 成果属性:
成果所处阶段: 授权 成果水平: 国内先进 研究形式:
学科分类: 战略新兴产业: 高端装备制造 课题来源:
第一完成单位名称: 天津理工大学 第一完成单位属性: 技术成熟度:
合作方式: 专利许可 交易价格(万): 2.00 所属十强产业:

本发明提供了一种可模拟神经突触的聚合物/量子点薄膜忆阻器,所述忆阻器包括从下至上依次设置的导电基底(1)、聚合物薄膜层(2)、碳基量子点层(3)、半导体量子点层(4)以及顶电极(5)。本发明所述的忆阻器结构在电场循环扫描下阻态持续变化,可以实现对神经突触的学习与记忆功能的模拟如长时程增强效应(LTP)和长时程抑制效应(LTD)。本发明所制备的阻变层均为溶液旋涂所得,可在柔性衬底上制备,应用可穿戴电子产品领域。器件具有尺寸小、结构简单、可集成芯片、功耗低的优点,可模仿人脑神经突触处理和学习工作行为,应用于新型微电子仿生单元,提高计算机的速度和并行处理能力。

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