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一种由聚焦堆栈重建光场的反投影方法和装置

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成果名称: 一种由聚焦堆栈重建光场的反投影方法和装置 关键字: 光场 , 堆栈 , 聚焦 , 重建 , 投影 , 平面 , 卷积 , 滤波 , 函数 , 频域 应用行业: 制造业
高新技术领域: 先进制造技术 所在地: 北京市 知识产权类型: 发明专利
知识产权编号: CN201710090372.1 成果体现形式: 成果属性:
成果所处阶段: 授权 成果水平: 国内先进 研究形式:
学科分类: 战略新兴产业: 高端装备制造 课题来源:
第一完成单位名称: 北京信息科技大学 第一完成单位属性: 技术成熟度:
合作方式: 专利许可 交易价格(万): 3.00 所属十强产业:

本发明公开了一种由聚焦堆栈重建光场的滤波反投影方法和装置,主要包括:给出四维光场与聚焦堆栈的几何关系,建立由光场形成聚焦堆栈的投影模型,形成投影算子;以投影模型为基础,建立四维光场与聚焦堆栈的频域关系,形成傅立叶切片关系;基于傅立叶切片关系,建立由聚焦堆栈重建光场的滤波反投影和卷积反投影方法;选取优化的滤波函数和卷积函数重建光场。本发明的聚焦堆栈是探测器和镜头相对移动采集得到的图像序列,通过选取优化的滤波函数和卷积函数,可重建出高精度的四维光场。四维光场可实现相机拍摄视角下的三维重构,可以为虚拟现实和几何测量提供精确的三维结构信息。

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