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用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法

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成果名称: 用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法 关键字: 标定 , 直线 , 畸变 , 相机 , 回光 , 坐标 , 框架 , 成像 , 图像 , 反射 应用行业: 制造业
高新技术领域: 先进制造技术 所在地: 北京市 知识产权类型: 发明专利
知识产权编号: CN201610297148.5 成果体现形式: 成果属性:
成果所处阶段: 授权 成果水平: 国内先进 研究形式:
学科分类: 战略新兴产业: 高端装备制造 课题来源:
第一完成单位名称: 北京信息科技大学 第一完成单位属性: 技术成熟度:
合作方式: 专利许可 交易价格(万): 3.00 所属十强产业:

本发明提供了一种用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法,包括步骤:a)展开框架,并用连接杆支撑所述框架的活动关节,保持所述框架稳定;b)将直线材料竖直平行固定于所述框架上下两端,并拉伸所述直线材料,保持所述直线材料的直线度;c)在所述连接杆上布置所述编码点,用普通相机对标定场中的编码点进行拍摄;d)获取所述编码点的空间坐标,将所述编码点的空间坐标进行平面拟合,并将坐标原点移动至拟合平面上;e)将待标定相机固定于微调平台;f)用所述待标定相机对所述标定场进行拍照,计算所述待标定相机的位置及光轴指向;g)通过调节所述微调平台,使光轴垂直于所述拟合平面;h)重复步骤f)和步骤g),调节所述待标定相机的位置误差小于0.005mm,角度误差小于0.005°。

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