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用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法
成果名称: | 用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法 | 关键字: | 标定 , 直线 , 畸变 , 相机 , 回光 , 坐标 , 框架 , 成像 , 图像 , 反射 | 应用行业: | 制造业 |
高新技术领域: | 先进制造技术 | 所在地: | 北京市 | 知识产权类型: | 发明专利 |
知识产权编号: | CN201610297148.5 | 成果体现形式: | 成果属性: | ||
成果所处阶段: | 授权 | 成果水平: | 国内先进 | 研究形式: | |
学科分类: | 战略新兴产业: | 高端装备制造 | 课题来源: | ||
第一完成单位名称: | 北京信息科技大学 | 第一完成单位属性: | 技术成熟度: | ||
合作方式: | 专利许可 | 交易价格(万): | 3.00 | 所属十强产业: |
本发明提供了一种用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法,包括步骤:a)展开框架,并用连接杆支撑所述框架的活动关节,保持所述框架稳定;b)将直线材料竖直平行固定于所述框架上下两端,并拉伸所述直线材料,保持所述直线材料的直线度;c)在所述连接杆上布置所述编码点,用普通相机对标定场中的编码点进行拍摄;d)获取所述编码点的空间坐标,将所述编码点的空间坐标进行平面拟合,并将坐标原点移动至拟合平面上;e)将待标定相机固定于微调平台;f)用所述待标定相机对所述标定场进行拍照,计算所述待标定相机的位置及光轴指向;g)通过调节所述微调平台,使光轴垂直于所述拟合平面;h)重复步骤f)和步骤g),调节所述待标定相机的位置误差小于0.005mm,角度误差小于0.005°。
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苏博晖
15614431192
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