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一种激光辅助原位巨量转移方法及系统
成果名称: | 一种激光辅助原位巨量转移方法及系统 | 关键字: | 激光 , micro , 转移 , led , 芯片 , 超短 , 脉冲 , 巨量 , 超短脉冲激光器 , 临时 | 应用行业: | 制造业 |
高新技术领域: | 电子信息技术 | 所在地: | 北京市 | 知识产权类型: | 发明专利 |
知识产权编号: | CN202110819686.7 | 成果体现形式: | 成果属性: | ||
成果所处阶段: | 授权 | 成果水平: | 国内先进 | 研究形式: | |
学科分类: | 战略新兴产业: | 新一代信息技术 | 课题来源: | ||
第一完成单位名称: | 清华大学 | 第一完成单位属性: | 技术成熟度: | ||
合作方式: | 专利许可 | 交易价格(万): | 30.00 | 所属十强产业: |
本发明公开了一种激光辅助原位巨量转移方法及系统,主要包括以下内容:利用红外激光波长较长,在保证激光能量密度的前提下激光光斑半径较大的特点对生长有Micro‑LED芯片的GaN/蓝宝石衬底利用激光振镜进行扫描,将Micro‑LED芯片从该衬底上剥离转移至临时转移结构上;利用超短脉冲激光的“冷加工”效应及多脉冲作用的能量累计原理对临时转移结构,利用激光振镜进行逐点快速扫描,实现将Micro‑LED芯片对目标基板的高速定点巨量转移;采用半反射镜将两种激光引入同一条激光加工光路中,在未被利用激光出光口处设置激光扩束装置。本发明通过采用双激光束扫描、脉冲激光逐点扫描进行Micro‑LED芯片巨量转移,转移速率高且良品率得到保证。
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