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一种基于可调光阑刻写任意栅区长度光纤光栅方法
成果名称: | 一种基于可调光阑刻写任意栅区长度光纤光栅方法 | 关键字: | 刻写 , 光纤 , 光栅 , 激光 , 调光 , 长度 , 光束 , 整形 , 激光器 , 相位 | 应用行业: | 制造业 |
高新技术领域: | 先进制造技术 | 所在地: | 北京市 | 知识产权类型: | 发明专利 |
知识产权编号: | CN201610916035.9 | 成果体现形式: | 成果属性: | ||
成果所处阶段: | 授权 | 成果水平: | 国内先进 | 研究形式: | |
学科分类: | 战略新兴产业: | 高端装备制造 | 课题来源: | ||
第一完成单位名称: | 北京信息科技大学 | 第一完成单位属性: | 技术成熟度: | ||
合作方式: | 专利许可 | 交易价格(万): | 3.00 | 所属十强产业: |
本发明公开了一种基于可调光阑刻写任意栅区长度光纤光栅方法,其中,该方法包括:对光纤进行载氢处理,并去除其涂覆层;对激光器发射的预定波长的激光光束进行整形处理;在上位机软件界面输入拟刻写栅区长度,根据刻写栅区长度调节光阑大小,然后通过控制一维移动平台调节光纤曝光区域,对光纤进行刻写获得光纤光栅。本发明公开的方法克服制备不同长度光纤光栅成本高,手动光路调节复杂、效率慢等问题,提供一种刻写长度可调光纤光栅的方法,能够获得均匀对比度高、栅区长度在线连续可调的光纤光栅。
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苏博晖
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