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一种电荷俘获存储器及其制备方法

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成果名称: 一种电荷俘获存储器及其制备方法 关键字: 应用行业:
高新技术领域: 所在地: 知识产权类型: 发明专利
知识产权编号: ZL201510264942 成果体现形式: 成果属性:
成果所处阶段: 成果水平: 国内先进 研究形式:
学科分类: 战略新兴产业: 课题来源:
第一完成单位名称: 河北大学 第一完成单位属性: 技术成熟度:
合作方式: 专利许可 交易价格(万): 6.00 所属十强产业:
本发明提供了一种电荷俘获存储器及其制备方法。所述电荷俘获存储器的结构由下至上依次是p-Si衬底、SiO2遂穿层、Zr0.5Hf0.5O2膜层和电极膜层;所述电极膜层为Au或Pt电极膜层;所述Zr0.5Hf0.5O2膜层是在p-Si衬底上通过磁控溅射所制成,所述SiO2遂穿层是在形成所述Zr0.5Hf0.5O2膜层后通过退火工艺而形成,所述电极膜层是在所述Zr0.5Hf0.5O2膜层上通过真空蒸镀而形成。本发明通过控制退火温度和退火时间,可得到厚度适中的SiO2遂穿层,合适厚度的SiO2遂穿层和Zr0.5Hf0.5O2膜层中的氧空位对器件有很大的影响,可使器件表现出良好的存储特性和保持特性。
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