成果名称：	并行卷对卷真空镀膜系统及真空镀膜方法	关键字：		应用行业：
高新技术领域：		所在地：		知识产权类型：	发明专利
知识产权编号：	ZL201610603943	成果体现形式：		成果属性：
成果所处阶段：		成果水平：	国内先进	研究形式：
学科分类：		战略新兴产业：		课题来源：
第一完成单位名称：	河北大学	第一完成单位属性：		技术成熟度：
合作方式：	专利许可	交易价格(万)：	6.00	所属十强产业：

本发明涉及一种并行卷对卷真空镀膜系统及真空镀膜方法。本发明真空镀膜系统包括一个中央传输室、连接并分布在中央传输室周边的一个样品进出室和若干薄膜沉积反应室，在所述中央传输室与所述样品进出室和与所述薄膜沉积反应室的连接处分别设有真空阀门，以控制中央传输室与样品进出室以及控制中央传输室与薄膜沉积反应室之间的通道启闭；在薄膜沉积反应室中设置有等离子体反应气盒和收/放卷装置。本发明具有结构紧凑、生产效率高、工艺条件设定灵活等特点，可在同一工艺腔室中集成多个卷对卷反应装置，且能消除互相之间等离子体反应的干扰，从而实现在多个柔性料卷上的并行薄膜蒸镀。