成果名称：	一种真空镀膜过程中薄膜厚度与蒸发速率测控方法	关键字：		应用行业：
高新技术领域：		所在地：		知识产权类型：	发明专利
知识产权编号：	ZL202010056528	成果体现形式：		成果属性：
成果所处阶段：		成果水平：	国内先进	研究形式：
学科分类：		战略新兴产业：		课题来源：
第一完成单位名称：	石家庄铁道大学	第一完成单位属性：		技术成熟度：
合作方式：		交易价格(万)：	2.00	所属十强产业：

本发明公开了一种真空镀膜过程中薄膜厚度与蒸发速率测控方法,搭建监控系统，并进行在线监控，所述在线监控具体步骤包括：(1)开启测控系统，输入RBF网络和PID参数初始数据，(2)打开真空镀膜设备，(3)利用晶体探头传感器测量附加质量负载的石英晶体振荡的谐振频率，通过谐振频率的改变来确定沉积薄膜质量，然后计算出蒸发速率v和实时膜厚的数值h；(4)蒸发速率发生偏移时，通过RBF神经网络自校正PID控制算法及时调整控制功率以维持蒸发速率的稳定。本发明可以实时监测薄膜厚度、蒸发速率并控制速率的稳定，工作人员通过观察镀膜过程中参数的数值显示与变化情况可以实时的了解工作状况以确保镀膜质量以及镀膜过程中的安全性。